以附着体作为全颌覆盖式种植义齿的固位形式时应注意：附着体的阳性部分应彼此平行，保证义齿有共同就位道；附着体的阳性部分和阴性部分在套叠后接触应均匀，避免应力集中；附着体阳性部分的顶端应进行缓冲，以利于鞍基下沉后应力分散，避免种植牙应力集中及扭力的损伤。