上颌后堤区的形成方法：先在上颌模型腭侧标出后缘线，用蜡刀沿此线刻入模型深1.0~1.5mm，再从此线向前延伸3~5mm，逐渐变浅；左右方向是越靠近腭中缝、越靠近两侧牙槽嵴越浅；沟的宽度在腭中缝处约2mm，在两侧翼上颌切迹约1mm，在中间区域可达4~5mm。因此上颌后堤沟最深的部位为后堤沟的后缘线。